電子級多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統(tǒng)成功問世

    時間：2017-02-27 17:39:44作者：LeeZhou來源：德高潔清潔設(shè)備分享到：QQ空間新浪微博騰訊微博人人網(wǎng)微信

    多晶硅是用工業(yè)硅通過化學(xué)
    、物理途徑提純制得
    ，多晶硅主要用于生產(chǎn)單晶硅和衛(wèi)星太陽能電池。單晶硅即硅半導(dǎo)體是多晶硅的衍生產(chǎn)品
    ，是制造繼承電路和電子元件的優(yōu)質(zhì)材料
    ，被廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)中
    。

    還原爐沉積多晶硅是間歇操作，一個運行周期內(nèi)
    ，硅棒不斷長大
    ，一個運行周期結(jié)束后打開鐘罩收割硅棒。但在運行期內(nèi)
    ，基盤及鐘罩表面均會產(chǎn)生一層土黃色粉末
    ，其主要成分是無定形硅。在收割硅棒后，需要進行基盤和鐘罩的清理
    ，再裝硅芯進行下一個周期的化學(xué)氣相沉積
    。
     
    多晶硅硅棒

    還原爐鐘罩污染物易造成內(nèi)表面熱量反射減少，使生產(chǎn)能耗增加
    ；電極周圍污染物降低了點擊的絕緣而導(dǎo)致運行過程中接地故障
    、倒棒等生產(chǎn)事故。而用于電子行業(yè)的多晶硅對產(chǎn)品質(zhì)量純凈度的控制要求更高
    ，

    隨著我國半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展
    ，對多晶硅純度要求越來越高，還原爐沉積環(huán)境的潔凈度就顯得特別關(guān)鍵
    ，任何顆粒性雜質(zhì)
    、油脂等物質(zhì)余留在爐內(nèi)，都會對產(chǎn)品質(zhì)量造成影響
    。那么
    ，如何清理能方便快捷，同時效果更佳
    ？

    多晶硅還原爐清洗系統(tǒng)始于2009年
    ，國內(nèi)第一家研發(fā)設(shè)計制造并獲得實用新型專利是北京德高潔清潔設(shè)備有限公司，該公司多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)覆蓋了國內(nèi)多家多晶硅生產(chǎn)企業(yè)
    。早期有高壓清洗
    、化學(xué)溶劑低壓清洗、機械拋光等
    ，但大多釆用堿液中壓清洗
    ，這些清洗方式不僅不能將鐘罩清洗干凈，還會損傷表面鍍銀的還原爐鐘罩
    ，為攻克這一難題
    ，一款全新的用于電子級的多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)應(yīng)運而生。

    電子級多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統(tǒng)特點：

    1
    、多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)以水為動力
    ，以水力自驅(qū)動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來完成爐筒內(nèi)部表面的水力掃射
    。

    2
    、采用可以旋轉(zhuǎn)和升降的清洗吹干執(zhí)行機構(gòu)
    ，根據(jù)還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置進行準(zhǔn)確定位
    。可自動切換不同清洗液及吹干
    ，通過控制系統(tǒng)可對清洗
    、吹干時間等進行調(diào)整。清洗時只需一鍵操作即可，操作簡單方便
    。

    3
    、根據(jù)還原爐底部法蘭的結(jié)構(gòu)特設(shè)計升級后的清洗工作臺，不僅可以滿足對內(nèi)壁和視孔鏡的清洗
    ，同時也滿足了底部法蘭的清洗
    。可實現(xiàn)對法蘭內(nèi)邊緣的清洗
    ，保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋
    ，并清洗、吹干
    。

    4
    、在整個還原爐的清洗過程中，清洗
    、干燥中筒內(nèi)形成微負(fù)壓狀態(tài)
    ，防止清洗外溢，同時將底座與筒體下法蘭處的污染物等一并吹掃
    ，通過排污管排出
    ，從而保證了整個過程不會對潔凈區(qū)造成污染。
     
    多晶硅還原爐鐘罩清洗前后對比

    經(jīng)過實際應(yīng)用
    ，多晶硅還原爐清洗系統(tǒng)整套系統(tǒng)可實現(xiàn)全自動化清洗操作
    ，在一個工作平臺上，一次吊裝可依次實現(xiàn)自動清洗烘干全部功能
    ，完全實現(xiàn)無死角清洗
    ，同時具有完善的聯(lián)鎖和保護功能。

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