多晶硅按不同的用途可分為太陽(yáng)能級(jí)多晶硅和電子級(jí)多晶硅兩類(lèi)
。太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的純度一般在5～7N
，主要雜質(zhì)為Fe
、Cr
、Ni、Cu
、Zn 等，金屬雜質(zhì)總含量≤0.2(太陽(yáng)能三級(jí)品要求)
。電子級(jí)多晶硅一般含Si＞99.9999%以上，超高純達(dá)到99.9999999%～99.999999999%
，即9～11N
，其導(dǎo)電性為10- 4～1010Ω·cm
，碳濃度＜2×1016at·cm- 3
。
油脂、水分、氯離子殘留
、金屬氧化物、氯化物
、灰塵及其他雜質(zhì)
，對(duì)多晶硅的純度影響極大
。在多晶硅設(shè)備制造
、安裝和多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中清洗是十分重要的部分
，要按多晶硅生產(chǎn)工藝
，對(duì)不同潔凈度要求、不同材質(zhì)的設(shè)備采用不同的清洗方法
。'
多晶硅設(shè)備的清洗的不同階段：
1、設(shè)備制造階段的清洗
金屬設(shè)備及管道
、零件需要在除漆前將表面的氧化皮和鐵銹除掉，設(shè)備內(nèi)部的油脂
、軋制鱗片
、銹皮等也需要進(jìn)行清洗
。
2
、多晶硅設(shè)備安裝階段的清潔
由于工藝管道輸送的介質(zhì)特性及產(chǎn)品純度要求，對(duì)管道的焊接質(zhì)量及內(nèi)部清潔
、吹掃試壓均有較高要求
，對(duì)設(shè)備進(jìn)場(chǎng)驗(yàn)收、檢驗(yàn)及安裝
、內(nèi)部處理也有較高要求，因此設(shè)備制造結(jié)束后的清洗處理至關(guān)重要
。在裝置進(jìn)行試生產(chǎn)前期
，系統(tǒng)注入四氯化硅進(jìn)行循環(huán)清洗約2～3個(gè)月
，時(shí)間的長(zhǎng)短取決于設(shè)備前期清洗情況
。
3、多晶硅設(shè)備生產(chǎn)期間的清洗
還原爐和氫化爐是改良西門(mén)子法生產(chǎn)多晶硅的核心設(shè)備
，其運(yùn)行好壞直接影響多晶硅質(zhì)量及生產(chǎn)成本。多晶硅生產(chǎn)對(duì)還原爐的沉積環(huán)境的潔凈度要求特別關(guān)鍵，任何顆粒性雜質(zhì)
、油脂等物質(zhì)余留在爐內(nèi)，都會(huì)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響
。北京德高潔清潔設(shè)備有限公司經(jīng)過(guò)研發(fā)設(shè)計(jì)并制造出了多晶硅自動(dòng)化還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)
，可以完全將多晶硅還原爐鐘罩清洗干凈
，滿(mǎn)足生產(chǎn)需求。
德高潔電子級(jí)
多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)包括低壓熱水清洗動(dòng)力裝置
、三維洗罐器、旋轉(zhuǎn)和升降執(zhí)行機(jī)構(gòu)
、清洗工作臺(tái)
、萬(wàn)級(jí)凈化干燥系統(tǒng)
、循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)
、控制裝置、微負(fù)壓系統(tǒng)
、清洗工作臺(tái)、電氣控制系統(tǒng)等
，系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了鐘罩的全自動(dòng)清洗和烘干操作
。
電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩自動(dòng)清洗系統(tǒng)特點(diǎn)：以水力自驅(qū)動(dòng)三維洗罐器為噴頭
，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來(lái)完成爐筒內(nèi)部表面的水力掃射
。配以旋轉(zhuǎn)和升降的清洗吹干執(zhí)行機(jī)構(gòu)，準(zhǔn)確定位
。操作簡(jiǎn)單方便，系統(tǒng)控制
，清洗
、吹干自行調(diào)整
。不僅可以滿(mǎn)足對(duì)內(nèi)壁和視孔鏡的清洗
，同時(shí)也滿(mǎn)足了底部法蘭的清洗。
在整個(gè)還原爐的清洗過(guò)程中
，清洗、干燥中筒內(nèi)形成微負(fù)壓狀態(tài)，防止清洗外溢
，同時(shí)將底座與筒體下法蘭處的污染物等一并吹掃，通過(guò)排污管排出
，從而保證了整個(gè)過(guò)程不會(huì)對(duì)潔凈區(qū)造成污染
。
生產(chǎn)多晶硅的工藝復(fù)雜，設(shè)備清洗是可以降低能耗保證多晶硅產(chǎn)品質(zhì)量的
。多晶硅生產(chǎn)企業(yè)對(duì)設(shè)備須從選型、選材
、清洗等方面進(jìn)行合理
、科學(xué)的管理
，應(yīng)用現(xiàn)代技術(shù)
