。
在進行電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗時，以上要求都是為了確保最終生產(chǎn)的硅片符合高純度和高質(zhì)量的要求
。這些要求有助于避免因為鐘罩表面殘留的污染物而引入缺陷
，從而影響電子級多晶硅硅片的生產(chǎn)質(zhì)量
，應對于以上的清洗要求
，普通的還原爐鐘罩清洗方式處理速度慢、清洗質(zhì)量不均勻
，且整體自動化程度低
；因此需要一種高效、快速、自動化程度高的多晶硅還原爐鐘罩內(nèi)壁清洗方式
。
二、電子級多晶硅還原爐鐘罩高效清洗方式德高潔高壓水電子級
多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)，由高壓熱水清洗系統(tǒng)、熱風凈化烘干系統(tǒng)
、控制系統(tǒng)等組成
，系統(tǒng)操作簡單，自動化程度高
，整個清洗工藝包含：還原爐鐘罩到位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高壓純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走
，全程僅需人工輔助作業(yè)，解決傳統(tǒng)人工清洗不安全
、不環(huán)保、清洗效果差
、自動化程度低
、效率不高的缺陷。
采用PLC+觸摸屏柔性自動控制系統(tǒng)
，能實現(xiàn)對還原爐鐘罩的自動清洗和烘干
，清洗烘干時間、溫度
、清洗
、漂洗等工藝參數(shù)可以根據(jù)需要自行調(diào)整設定
，同時具有半自動或手動功能
。一次吊裝在一個工作臺上完成全部清洗、烘干過程
，可實現(xiàn)遠程對樓下設備的控制和主要參數(shù)監(jiān)控
。
全密閉式清洗烘干系統(tǒng)，清洗時采用高壓水三維立體清洗技術
，以水力自驅(qū)動三維洗罐器為噴頭
，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來完成爐筒內(nèi)部表面的水力掃射，實現(xiàn)內(nèi)部無死角清洗
，以水為清洗介質(zhì)可有效避免靜電的產(chǎn)生，清洗后旋轉(zhuǎn)和升降清洗吹干執(zhí)行機構(gòu)
，根據(jù)還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置進行準確定位
，可自動切換不同清洗液及吹干，通過控制系統(tǒng)可對清洗、吹干時間等進行調(diào)整
，清洗時只需一鍵操作即可
，操作簡單方便。
在整個還原爐的清洗過程中
，清洗、干燥中筒內(nèi)形成微負壓狀態(tài)
，防止清洗外溢
，清洗后的廢水廢氣處理系統(tǒng)可使污染物(廢氣、廢水等)在受控的條件下
，按設計出口排放
，基本消除了對現(xiàn)場及操作人員的污染。
德高潔高壓水電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)
，其核心部件
、元件和附件原裝進口保證了電子級多晶硅鐘罩清洗系統(tǒng)性能的可靠，可以在一套系統(tǒng)實現(xiàn)多種型號鐘罩的清洗烘干
。除此之外，根據(jù)還原爐底部法蘭的結(jié)構(gòu)特殊設計升級后的清洗工作臺
，不僅可以滿足對內(nèi)壁和視孔鏡的清洗
，同時也滿足了底部法蘭的清洗�
？蓪崿F(xiàn)對法蘭內(nèi)邊緣的清洗
，保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋，并清洗
、吹干
。
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